山东国创微纳制造研究院有限公司 核心业务介绍

北崎国际贸易（北京）有限公司供货

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山东国创微纳制造研究院有限公司（通常简称“国创微纳"）是一家聚焦微纳制造技术的研发与产业化机构，位于山东烟台。它由地方政府、高校（如西安交通大学）及行业企业共建，属于新型研发机构类型，核心方向是微机电系统（MEMS）、微纳传感器、超精密加工技术及相关装备。

主要业务方向：

微纳传感器/执行器的设计、工艺开发与小批量试制（如压力、流量、惯性传感器）；

微流控芯片、光电器件的微纳结构加工；

提供微纳加工技术服务（对外代工或联合研发）；

相关专用设备与工艺解决方案的孵化。

核心工艺（按技术类别分）：

1. 光刻与图形化工艺

紫外光刻、电子束光刻 – 用于制作微米/纳米级图形掩膜；

纳米压印光刻（NIL） – 高分辨率、低成本复制纳米结构。

2. 薄膜沉积工艺

物理气相沉积（PVD）：磁控溅射、电子束蒸发；

化学气相沉积（CVD）：PECVD、LPCVD；

原子层沉积（ALD） – 用于高精度超薄薄膜。

3. 刻蚀工艺

湿法刻蚀（各向同性/各向异性，如KOH、TMAH）；

干法刻蚀：感应耦合等离子体刻蚀（ICP-RIE，用于深硅刻蚀）、反应离子刻蚀（RIE）。

4. 超精密机械加工工艺

飞秒激光加工 – 无热影响区的微孔、微槽加工；

微电火花加工（Micro-EDM）；

聚焦离子束（FIB）加工 – 纳米级修形与切割。

5. 键合与封装工艺

阳极键合、共晶键合、硅-玻璃键合 – 用于MEMS器件密封；

晶圆级封装（WLP） – 保护微结构并引出电信号。

6. 辅助工艺

清洗（RCA标准清洗、等离子清洗）；

氧化/扩散（热氧化生长SiO₂层）；

减薄/抛光（化学机械抛光CMP）。

总结：该公司并非传统机械加工厂，而是典型的微纳制造研发平台，工艺以半导体类MEMS工艺（光刻+薄膜+刻蚀）为主，结合超精密特种加工（激光、FIB、微电火花）。其产出多为传感器芯片、微结构样品或工艺解决方案，服务于航空航天、生物医疗、智能穿戴等领域。与普通精密机械制造相比，其核心在于微米/纳米尺度的结构可控加工，而非宏观零件的尺寸精度控制。

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