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北崎-SCREEN斯库林 椭圆膜厚度测量仪
  • 产品型号:VM-2500
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2026-07-28
  • 访  问  量:4
简要描述:

北崎-SCREEN斯库林 椭圆膜厚度测量仪
日本SCREEN斯库林光谱椭偏式薄膜厚度测量机,依托高精度光谱椭偏检测原理,实现非接触、无损伤、高精密全域膜层检测,是半导体前道制程膜质管控、工艺校准、批量质检的核心检测设备,广泛适配逻辑芯片、存储晶圆、功率器件、MEMS传感器等产线。北崎国际拥有日本原厂一手货源,可为国内半导体企业、科研机构提供原装设备、工艺调试与全周期维保服务。

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产品详情

半导体先进制程持续升级,薄膜沉积、氧化、镀膜等工艺的精度要求愈发严苛,薄膜厚度、折射率、膜层均匀度的微小偏差,都会直接影响芯片电学性能与量产良率。传统接触式检测设备易划伤晶圆表层、检测精度有限,难以适配纳米级超薄薄膜与多层堆叠膜层的检测需求。日本SCREEN斯库林光谱椭偏式薄膜厚度测量机,依托高精度光谱椭偏检测原理,实现非接触、无损伤、高精密全域膜层检测,是半导体前道制程膜质管控、工艺校准、批量质检的核心检测设备,广泛适配逻辑芯片、存储晶圆、功率器件、MEMS传感器等产线。北崎国际拥有日本原厂一手货源,可为国内半导体企业、科研机构提供原装设备、工艺调试与全周期维保服务。

北崎-SCREEN斯库林  椭圆膜厚度测量仪

该设备核心采用光谱椭偏无损检测技术,通过解析偏振光反射后的光谱参数变化,精准测算晶圆表面薄膜厚度、光学折射率、消光系数等核心数据,无需接触晶圆表面,杜绝机械接触造成的膜层划伤、器件损伤,适配超薄薄膜、精密纳米结构器件的检测场景。搭载原厂自研微斑点光学系统,可实现40μm微小区域精准测量,能够精准检测芯片局部细微膜层偏差,解决传统设备大范围检测无法识别微观工艺缺陷的痛点,适配先进制程精细化质检需求。

相较于传统检测设备,斯库林光谱椭偏测量机兼具高精度与高产能双重优势,全新升级光学检测模组,检测效率较传统机型提升一倍,可适配产线24小时不间断批量检测作业。设备支持单层、多层堆叠薄膜同步检测,可精准识别各类介质膜、氧化膜、光刻胶薄膜的参数差异,实时反馈膜层均匀度、厚度偏差、材质缺陷,为薄膜沉积工艺参数调整提供精准数据支撑,有效提升制程稳定性与产品一致性。

北崎-SCREEN斯库林  椭圆膜厚度测量仪

设备搭载智能化数据运算与自检系统,内置多组标准工艺模型,可自动适配不同晶圆尺寸、膜层材质与制程工艺,快速完成数据采集、分析、归档与溯源。全程自动化检测流程,人工干预少,检测误差极低,数据重复性优异。整机采用高洁净模块化设计,适配8英寸、12英寸超高洁净晶圆产线,运行过程无微粒析出,不会对晶圆造成二次污染,符合半导体量产车间规范。

作为半导体薄膜工艺质控的核心设备,SCREEN斯库林光谱椭偏式膜厚测量机凭借无损、精准、高效的特性,成为先进制程量产刚需设备。北崎国际依托原厂直供渠道,无中间商溢价,可提供设备选型、工艺优化、安装调试、备件更替一站式服务,助力国内半导体薄膜工艺精准管控与产线品质升级。

光谱薄膜厚度测量系统

VM-2500/VM-3500

高速模式实现160 WPH的高吞吐量,非常适合多点测量通信设备及其他产品

  •  北崎-SCREEN斯库林  椭圆膜厚度测量仪


1. VM-2500 / VM-3500系列在高速模式下(SiO五点测量时)可提供高达每小时160片晶圆的高通量2威化)。

2. VM-2500 / VM-3500系列具备日志功能,支持改进维护。SCREEN还利用其多年半导体行业经验,打造出易于维护的设计。

3. 配方易于创建,输入光学常数也简单,这得益于SCREEN在该领域的经验。软件几乎可以通过鼠标控制,并且支持笔触控面板操作。

4. Windows 10 操作系统作为标准安装。

5. VM-2500 / VM-3500系列采用节省空间、紧凑的设计,便于将设备安装到现有空间,并大大简化生产线布局。

6. VM-3500可选配沟槽测量机构,能够同时测量薄膜厚度和沟槽深度。

 

北崎-SCREEN斯库林  椭圆膜厚度测量仪




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